[发明专利]用于放置辅助特征的方法和装置有效
| 申请号： | 200510097600.5 | 申请日： | 2005-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN1801159A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | L·S·纳尔文三世 | 申请（专利权）人： | 新思公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明的一个实施例提供了一种在一个布局中确定放置辅助特征的位置的系统。在操作过程中，所述系统接收一个集成电路布局。然后，所述系统在该布局中选择一个求值点。所述系统然后在该布局中选择一个候选位置，用于放置辅助特征。接下来，所述系统以迭代方式执行以下步骤从而确定在该布局中放置辅助特征的最终位置：(a)在候选位置的附近选择扰动位置用于放置代表性的辅助特征，(b)使用图像强度模型、该布局、以及通过在候选位置和扰动位置放置代表性的辅助特征来计算空间图像，(c)基于所述空间图像，计算所述求值点处的图像梯度值，和(d)基于所述图像梯度值更新辅助特征的候选位置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 放置 辅助 特征 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种在布局中放置辅助特征的方法，包括：接收一集成电路的布局；在该布局中选择一求值点；利用在所述求值点处的一空间图像的图像强度梯度值，来识别相长干扰节点和相消干扰节点的位置；其中所述空间图像是使用一图像强度模型、所述布局，并通过在所述布局中放置一个或多个代表性辅助特征来计算的；以及基于所述相长干扰节点和相消干扰节点的位置，在所述布局中放置辅助特征。
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