[发明专利]具有黑矩阵的显微透镜阵列薄片及其制造方法无效
| 申请号： | 200510092298.4 | 申请日： | 2005-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN1749826A | 公开（公告）日： | 2006-03-22 |
| 发明（设计）人： | 吴昌勋;权赫;林泰宣;李泳柱;朴纪垣;成东默;李根雨 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社;LG麦可龙电子公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;杨本良 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 在此公开的是具有黑矩阵的显微透镜阵列薄片及其制造方法。该制造方法包括步骤：a)通过一层接一层地顺序铺设显微透镜阵列层、透明支撑基底或薄膜层和负型光敏树脂层之后辐射和会聚平行光，在负型光敏树脂层中形成会聚光穿过的光孔的区域；和b)去除除了在光敏树脂层中形成的光孔的区域之外的部分，并且在已去除的部分的区域中形成黑矩阵层。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 矩阵 显微 透镜 阵列 薄片 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造具有黑矩阵层的显微透镜阵列薄片的方法，其包括步骤：在通过一个接一个地顺序铺设显微透镜阵列层、透明支撑基底或薄膜层，和负型光敏树脂层之后辐射并会聚平行光，来在负型光敏树脂层中定义会聚光穿过的光孔区域；和去除除了在光敏树脂层中定义的光孔区域之外的部分，并且在其中已去除部分的区域中形成黑矩阵层。
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