[发明专利]金属的电解沉积方法无效
| 申请号： | 200510092292.7 | 申请日： | 2005-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN1740399A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | 克里斯特尔·万·维京加登;马尔科·舍特勒;马利斯·克莱因菲尔德;约阿基姆·海尔 | 申请（专利权）人： | 恩通公司 |
| 主分类号： | C25D3/38 | 分类号： | C25D3/38 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;杨青 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及在牵引设备中由酸性电解质进行无光泽或半光泽铜层的电解沉积的方法及电解质。本发明方法操作的电流密度为10A/dm2和100A/dm2之间，适合于在高速牵引设备中快速沉积厚铜层。除铜以外，本发明电解质还含有烷基磺酸。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 电解 沉积 方法 | ||
【主权项】：
1.由酸性电解质在基材上进行无光泽或半光泽铜层的电解沉积的方法，其特征在于用于层的沉积的电流密度设定为约10A/dm2和100A/dm2之间，优选为20A/dm2和80A/dm2之间。
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