[发明专利]设计掩模的方法

摘要

本发明提供一设计掩模(mask)的方法。首先，包括至少一个条状图案的主要图形在掩模衬底上形成，而转移机构(shift feature)附加在条状图案的一端。在主要图形的线端与线端之间的最后临界尺寸(critical dimension)可借由调整转移机构的相移量(phase shift)或透光率(optical transmission)，或两者同时调整以最佳化。因此可改善主要图形中条状图案尾端的回拉现象(pullback)。

主权项

1.一种设计掩模的方法，其特征在于，该方法包括：提供一掩模，该掩模包括一掩模衬底以及形成在该掩模衬底上的一主要图形，其中该主要图形包括至少一条状图案，以及提供一转移机构至该主要图形中的该条状图案的一端，使得该条状图案的该端的临界尺寸小于0.255微米，其中该掩模衬底与该转移机构之间有范围在60度至100度的一光相位差，转移机构的一透光度的范围在60％至100％。