[发明专利]磁头、磁头悬架组件、磁性再现设备以及制造磁头的方法无效
| 申请号： | 200510087683.X | 申请日： | 2005-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN1744199A | 公开（公告）日： | 2006-03-08 |
| 发明（设计）人： | 大川真辉;山本尚之;园田幸司 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/187 | 分类号： | G11B5/187;G11B5/255 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种在磁性记录介质附近使用的磁头，其特征在于该磁头包括：基片(4)；紧密接触层(3)，叠放在基片上；以及保护层，叠放在紧密接触层之上并且面对磁性记录介质，其中，保护层包括：利用过滤阴极真空电弧(FCVA)工艺在第一偏压下在紧密接触层上叠放叠层材料形成的第一层(2)；以及利用FCVA工艺在比第一偏压高的第二偏压下在第一层上叠放叠层材料形成的第二层(1)。 | ||
| 搜索关键词： | 磁头 悬架 组件 磁性 再现 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁头，在磁性记录介质附近使用，其特征在于该磁头包括：基片(4)；紧密接触层(3)，叠放在所述基片上；以及保护层，叠放在所述紧密接触层之上并且面对所述磁性记录介质，所述保护层包括：通过利用过滤阴极真空电弧(FCVA)工艺在第一偏压下在所述紧密接触层上叠放叠层材料形成的第一层(2)；以及通过利用FCVA工艺在比第一偏压高的第二偏压下在所述第一层上叠放叠层材料形成的第二层(1)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝，未经株式会社东芝许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510087683.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
