[发明专利]用于从基片上除去光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物的组合物及其应用有效
| 申请号： | 200510087545.1 | 申请日： | 2005-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN1724626A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | M·I·埃格贝;D·G·詹宁斯 | 申请（专利权）人： | 气体产品与化学公司 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32;G03F7/42;H01L21/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温宏艳;赵苏林 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 含有一些有机溶剂和季铵化合物的组合物能够将残留物例如光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物从物品上除去，其中所述有机溶剂包含至少505重量的二醇醚。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基片上 除去 光致抗蚀剂 蚀刻 残留物 组合 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.用于除去残留物的组合物，所述组合物包含：a)至少约50％重量的有机溶剂，其中至少约50％的有机溶剂是二醇醚；和b)至少约0.5％重量的季铵化合物。
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