[发明专利]步进扫描光刻机晶片台掩模台同步控制系统

摘要

一种步进扫描光刻机晶片台掩模台控制系统，其特征在于：它由主控制模块[13]、晶片台控制模块[12]、掩模台控制模块[10]和同步控制模块[11]组成。本发明采用带有扰动控制器的同步控制降低了扰动对晶片台及掩模台运动精度和稳定性的影响，引入同步控制补偿器，减小了同步误差，并最终改善了光刻机的精度。本发明不仅可以实现扫描曝光过程所需的步进扫描运动，而且能提高机构的精度和稳定性。本发明即适用于光学扫描投影光刻机，可适用于极紫外扫描曝光机，以及其它微细加工设备的同步控制。

主权项

1、一种步进扫描光刻机晶片台掩模台控制系统，其特征在于它由主控制模块[13]、晶片台控制模块[12]、掩模台控制模块[10]和同步控制模块[11]组成；主控模块[13]包括主控CPU卡[101]，其功能是向各模块发出扫描指令，并规定扫描同步误差、扫描速度和加速度等参数；晶片台控制模块[12]包括：运动控制卡[102a]，位置数据采集卡[103a]，前者负责调整晶片台的运动轨迹、速度、加速度，后者负责实时采集晶片台位置信息，并反馈给运动控制卡[102a]；掩模台控制模块[10]包括：运动控制卡[102b]，位置数据采集卡[103b]，前者负责调整掩模台的运动轨迹、速度、加速度，后者负责实时采集掩模台位置信息，并反馈给运动控制卡[102b]；同步控制模块[11]包括：同步控制卡[104]，存储器[105]，同步控制卡[104]负责根据位置数据采集卡[102a]、[102b]反馈的晶片台和掩模台位置信息，计算同步误差，并将同步误差与误差允许值进行比较，根据结果决定下一个子场的扫描参数，确定的同步扫描参数存储在存储器[105]中；主控制模块[13]与其它三个模块间用工业总线连接，各模块内部及模块之间采用电缆连接；激光干涉仪[103a]、[103b]与同步控制卡[104]连接，把检测到的位置信息传输给同步控制卡[104]；同步控制卡[104]又与运动控制卡[102a]、[102b]连接，把调整后的运动参数输入到运动控制卡[[102a]、[102b]。