[发明专利]合金低温直接氧化制备单相氧化物的方法有效
申请号: | 200510086409.0 | 申请日: | 2005-09-13 |
公开(公告)号: | CN1766142A | 公开(公告)日: | 2006-05-03 |
发明(设计)人: | 张涛;章安玉;纪云飞;马朝利 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | C22C1/04 | 分类号: | C22C1/04;C22C14/00;C22C16/00;C22F1/18 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人: | 刘秀娟;成金玉 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种合金低温直接氧化制备单相氧化物的方法,其特征在于包括下列步骤:(1)将金属Zr和Ti按摩尔比4∶6~7∶3称量,熔炼制成母合金;(2)将母合金剪切成小块,置于控温设备中,升温至500℃以上,保温3小时以上后,使其自然降至室温,取出样品。本发明只需简单的设备,在较低的温度下,从Zr-Ti合金直接制备相应的ZrTiO4单相粉末;与现有多元氧化物单相制备方法相比,制备工艺简单,无污染,而且节省时间。 | ||
搜索关键词: | 合金 低温 直接 氧化 制备 单相 氧化物 方法 | ||
【主权项】:
1、一种合金低温直接氧化制备单相氧化物的方法,其特征在于包括下列步骤:(1)将金属Zr和Ti按摩尔比4∶6~7∶3称量,熔炼制成母合金;(2)将母合金剪切成0.3~0.7克的小块,置于控温设备中,升温至500℃以上,保温3小时以上,使其自然降至室温,取出样品。
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