[发明专利]光学测量方法及光学测量装置有效
| 申请号： | 200510086024.4 | 申请日： | 2005-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN1721841A | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | 松村淳一;大久保宪治 | 申请（专利权）人： | 东丽工程株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/896 | 分类号： | G01N21/896;G01B11/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供能够避免检查对象的表面特性引起噪声使测量精度恶化的光学测量方法及光学测量装置。将光照射到检查对象(GL)上，接受从检查对象(GL获得的光最终变换成二维光强度信号(S1)，从光强度信号(S1)中将测量表面状态(IB)时必须的信号即关注信号(SB)与测量表面状态时不需要的信号即噪声信号(SN)分离，由此仅抽出关注信号(SB)，将抽出的关注信号(SB)与预定的阈值(T1)进行比较。实际上为比较光强度信号(S1)与追随噪声信号(SN)的阈值，能够避免检查对象的表面特性引起噪声使测量精度恶化。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量方法 测量 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学地测量检查对象的表面状态的光学测量方法，其特征在于，将光照射到上述检查对象上，接受从上述检查对象获得的光，最终变换成二维光强度信号，从上述光强度信号中将测量上述表面状态时必需的信号即关注信号与测量上述表面状态时不需要的信号即噪声信号分离，由此仅抽出关注信号，将抽出的关注信号与预定的阈值进行比较。
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