[发明专利]在基片上制作带图形光学滤波层的方法有效
| 申请号： | 200510084615.8 | 申请日： | 2005-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN1721889A | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | 迪特·维特博格;托马斯·库帕;录兹·佐格;安德里·米尔坦斯 | 申请（专利权）人： | 肖特股份公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明提供一种在基片上至少制作一个光学滤层分段的方法，其中：在基片表面上制作包含抗蚀层的掩模；利用真空沉积法，在基片表面上沉积光学滤波层；从抗蚀层上去除有光学滤波层的抗蚀层；其中沉积光学滤波层至少发生在高于150℃的温度下，最好是在高于150℃至400℃的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 基片上 制作 图形 光学 滤波 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在基片上至少制作一个光学滤波层分段的方法，其中-在基片表面上制作包含抗蚀层的掩模，-利用真空沉积法，在基片表面上沉积光学滤波层，和-从抗蚀层上去除有光学滤波层的抗蚀层，其中沉积光学滤波层至少发生在高于150℃的温度下，最好是在高于150℃直至400℃的范围内。
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