[发明专利]半导体器件有效
申请号: | 200510082100.4 | 申请日: | 2005-07-06 |
公开(公告)号: | CN1741282A | 公开(公告)日: | 2006-03-01 |
发明(设计)人: | 寺岛知秀 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L29/72 | 分类号: | H01L29/72 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 浦柏明;刘宗杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的课题是,提供可同时改善IGBT的工作和逆向导通功能这两者的特性的半导体器件。该半导体器件1A包括:在N-外延层5的表面层上隔开各P扩散区9、11而形成的P扩散区23;在P扩散区23的表面层上被P扩散区23包围而形成的N+扩散区25;在设置在N+扩散区25上的同时,与第1集电极电极19a连接的第2集电极电极19b;以及跨设在P扩散区23和N-外延层5上,构成从N-外延层5到P扩散区23的导电路径的电极27。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,它是包括了:第1导电类型的半导体衬底;在上述半导体衬底的一侧主面上所形成的第2导电类型的半导体层;在上述半导体层的表面层上形成,同时经第1导电类型的半导体区与上述半导体衬底连接的第1导电类型的第1半导体区;在上述半导体层的表面层上隔开上述第1半导体区而形成的第1导电类型的第2半导体区;在上述第1半导体区的表面层上被上述第1半导体区包围而形成的第2导电类型的第3半导体区;在被上述第3半导体区和上述半导体层夹持的上述第1半导体区的表面部分隔着第1栅绝缘膜而设置的第1栅电极;在上述第2半导体区上设置的第1集电极电极;以及跨设在上述第1半导体区和上述第3半导体区上的发射极电极的半导体器件,其特征在于:包括:在上述半导体层的表面层上隔开上述第1半导体区和上述第2半导体区而形成的第1导电类型的第4半导体区;在上述第4半导体区的表面层上被上述第4半导体区包围而形成的第2导电类型的第5半导体区;在上述第5半导体区上设置,同时与上述第1集电极电极连接的第2集电极电极;以及跨设在上述第4半导体区和上述半导体层上,构成从上述半导体层到上述第4半导体区的导电路径的电极。
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