[发明专利]薄膜蚀刻方法以及使用该方法制造液晶显示器件的方法有效
| 申请号: | 200510080123.1 | 申请日: | 2005-06-29 | 
| 公开(公告)号: | CN1770017A | 公开(公告)日: | 2006-05-10 | 
| 发明(设计)人: | 朴正权 | 申请(专利权)人: | LG.菲利浦LCD株式会社 | 
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02F1/133 | 
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;梁挥 | 
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR | 
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| 摘要: | 本发明公开了一种薄膜蚀刻方法,包括:在基板上形成层,在所述层上对准地设置其上限定有图案的掩模;以及通过使用飞秒激光通过掩模照射基板去除部分所述的层。 | ||
| 搜索关键词: | 薄膜 蚀刻 方法 以及 使用 制造 液晶显示 器件 | ||
【主权项】:
                1、一种薄膜蚀刻方法,包括:在基板上形成层;在所述层上对准地设置其上限定有图案的掩模;以及通过使用飞秒激光通过所述掩模照射基板去除部分所述的层。
            
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