[发明专利]制造磁记录介质的方法和用于其的模具有效
| 申请号： | 200510077628.2 | 申请日： | 2005-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN1819034A | 公开（公告）日： | 2006-08-16 |
| 发明（设计）人： | 今村孝浩;中村裕 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/82 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵淑萍 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制造磁记录介质的方法和用于其的模具。在衬底上的磁层表面上形成阻挡膜。在磁层表面上覆盖模具。该模具包括围绕槽交替布置在平坦表面上的磁区域和非磁区域。使所述阻挡膜凸出，以使得平坦表面驱动阻挡膜进入模具的槽中。在保持模具与磁层接触的同时槽内的阻挡膜固化。向与磁层接触的模具施加磁场。从磁区域泄漏的磁场作用在磁层上。于是基于所泄漏的磁场来将磁信息写入磁层中。可以基于固化的阻挡膜在磁层中建立记录轨道。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 记录 介质 方法 用于 模具 | ||
【主权项】：
1.一种制造磁记录介质的方法，包括：在衬底的表面上的磁层表面上形成阻挡膜；使在平坦表面上围绕槽交替布置有磁区域和非磁区域的模具接触所述磁层的所述表面，以使所述阻挡膜凸出；在保持所述模具与所述磁层接触的同时固化所述阻挡膜；以及在保持所述模具与所述磁层接触的同时向所述磁区域施加磁场。
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