[发明专利]多孔氧化硅微流体样品预处理芯片无效
申请号: | 200510076662.8 | 申请日: | 2005-06-13 |
公开(公告)号: | CN1880473A | 公开(公告)日: | 2006-12-20 |
发明(设计)人: | 崔大付;陈兴 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电子学研究所 |
主分类号: | C12Q1/68 | 分类号: | C12Q1/68;C12Q1/04;G01N33/68 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明多孔氧化硅微流体样品预处理芯片,涉及一种用于生物样品分离提纯的微流体样品预处理芯片,采用硅片、玻璃为芯片主体材料,在硅片上刻蚀出微沟道,在微沟道两端刻蚀出进样、出样孔或进样、出样流通池,硅片上键合玻璃盖板,采用电化学腐蚀法在氢氟酸乙醇溶液中制备多孔硅,然后采用热氧化法制备多孔氧化硅层对微沟道进行修饰,该多孔氧化硅层作为分离提纯的固相载体。本芯片通过在硅芯片微沟道表面制备有多孔氧化硅层,比无多孔氧化硅层的普通芯片具有更大的比表面积,增加了固相载体的吸附面积,大大提高了生物样品的分离提取效率。 | ||
搜索关键词: | 多孔 氧化 流体 样品 预处理 芯片 | ||
【主权项】:
1.一种多孔氧化硅微流体样品预处理芯片,用于生物样品分离提纯,采用硅片、玻璃片为芯片主体材料,在硅片上刻蚀出微沟道,在微沟道两端刻蚀出进样、出样孔或进样、出样流通池,进样、出样孔或进样、出样流通池的开口向下或向上,硅片上键合玻璃盖板,其特征在于,对微沟道进行修饰,在微沟道表面制备多孔氧化硅层,该多孔氧化硅层作为分离提纯的固相载体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院电子学研究所,未经中国科学院电子学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510076662.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。