[发明专利]增强的溅射靶合金组合物无效
| 申请号： | 200510076462.2 | 申请日： | 2005-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN1712551A | 公开（公告）日： | 2005-12-28 |
| 发明（设计）人： | 阿卜杜勒－瓦哈卜·齐亚尼;程远达;贝恩德·孔克尔;迈克尔·巴托洛梅乌斯 | 申请（专利权）人： | 黑罗伊斯公司 |
| 主分类号： | C22C30/00 | 分类号： | C22C30/00;G11B5/66 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 郭国清;樊卫民 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种溅射靶，其中所述溅射靶包括Co、大于0－24at.％的Cr、大于0－20at.％的Pt、大于0－20at.％的B和大于0－ 10at.％的X1，其中X1是选自Ag、Ce、Cu、Dy、Er、Eu、Gd、Ho、In、La、Lu、Mo、Nd、Pr、Sm、Tl、W和Yb的元素。所述溅射靶还包括X2，其中X2选自W、Y、Mn和Mo。另外，所述溅射靶还包括0－7 at.％的X3，其中X3选自Ti、V、Zr、Nb、Ru、Rh、Pd、Hf、Ta和Ir。通过溅射靶溅射的薄膜的矫顽力值为1000奥斯特至4000奥斯特。 | ||
| 搜索关键词： | 增强 溅射 合金 组合 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其中所述溅射靶包括Co、大于0-24at.％的Cr、大于0-20at.％的Pt、大于0-20at.％的B和大于0-10at.％的X1，其中X1是选自Ag、Ce、Cu、Dy、Er、Eu、Gd、Ho、In、La、Lu、Mo、Nd、Pr、Sm、Tl、W和Yb的元素。
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