[发明专利]半导体集成电路、升压电路和电容器有效

专利信息
申请号: 200510076199.7 申请日: 2005-06-08
公开(公告)号: CN1707799A 公开(公告)日: 2005-12-14
发明(设计)人: 渡边庆久 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;G11C11/34
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 岳耀锋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种半导体集成电路、升压电路和电容器,可防止在电容器周边产生的寄生电容所引起的特性降低。利用阱电容器来构成升压电路的电容器(532)。此外,以覆盖栅极(23)上的方式形成了用于把电压施加到阱电容器的n型阱(21)的第1布线层(26)的一部分。
搜索关键词: 半导体 集成电路 升压 电路 电容器
【主权项】:
1.一种半导体集成电路,包含电容器,其特征在于:在多个电容器串联连接的部分中,上述电容器的至少一部分作为阱电容器来形成。
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