[发明专利]半导体装置以及用于形成SRAM单元的方法无效

专利信息
申请号: 200510075665.X 申请日: 2005-06-10
公开(公告)号: CN1855472A 公开(公告)日: 2006-11-01
发明(设计)人: 黄健朝;陈豪育;杨富量;黄正权;钟堂轩 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/52 分类号: H01L23/52;H01L27/11;H01L21/8244
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 台湾省新竹科学*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种半导体装置以及用于形成SRAM单元的方法。其中,该半导体装置包括:第一元件、第二元件、斜置接触型导线。该第一元件,其大致呈一第一方向。该第二元件,其大致呈一第二方向,其中该第二方向与该第一方向平行或垂直。该斜置接触型导线,其与该第一元件及该第二元件电性连结。本发明有效地减少了集成电路的布局面积。斜置接触型导线设计使得布局更加有弹性且更加紧密。接触型导线之间的相互干扰也得以降低。
搜索关键词: 半导体 装置 以及 用于 形成 sram 单元 方法
【主权项】:
1、一种半导体装置,其包括:一第一元件,沿一第一方向配置;一第二元件,沿一第二方向配置,其中该第二方向与该第一方向平行或垂直;以及一斜置接触型导线,倾斜于该第一和第二方向,且与该第一元件及该第二元件电性连结。
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