[发明专利]清洗阵列基底的自动方法无效
| 申请号： | 200510075218.4 | 申请日： | 2005-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN1706565A | 公开（公告）日： | 2005-12-14 |
| 发明（设计）人： | 阿瑟·施莱费尔 | 申请（专利权）人： | 安捷伦科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 肖善强 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了用于清洗阵列基底的方法。所述方法包括将阵列基底与第一清洗溶液相接触以及触发自动清洗过程。所述的自动清洗过程包括：a)将阵列基底与第一清洗溶液分离，b)将阵列基底与第二清洗溶液接触，c)在受控条件下于第二清洗溶液中对阵列基底进行保育，d)将阵列基底与第二清洗溶液分离，e)将阵列基底与第三清洗溶液接触，以及f)将阵列基底与第三清洗溶液分离。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 阵列 基底 自动 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洗阵列基底的方法，所述方法包括将阵列基底与第一清洗溶液接触，以及触发自动清洗过程，所述自动清洗过程包括a)将所述阵列基底与所述第一清洗溶液分离，其中，所述分离消耗少于大约10秒的时间，b)在将所述阵列基底与所述第一清洗溶液分离之后大约15秒之内，将所述阵列基底与第二清洗溶液接触，c)在包括时间和温度的受控条件下，于所述第二清洗溶液中对所述阵列基底进行保育，d)将所述阵列基底与所述第二清洗溶液分离，其中，所述分离消耗少于大约10秒的时间，e)将所述阵列基底与前种清洗溶液分离之后大约15秒之内，将所述阵列基底与第三清洗溶液接触，和f)将所述阵列基底与所述第三清洗溶液分离，其中所述分离消耗至少大约3秒至至多大约120秒的时间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安捷伦科技有限公司，未经安捷伦科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510075218.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
