[发明专利]化学机械抛光垫及化学机械抛光方法无效
| 申请号： | 200510073749.X | 申请日： | 2005-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN1864929A | 公开（公告）日： | 2006-11-22 |
| 发明（设计）人： | 志保浩司;田野裕之;保坂幸生;西村秀树 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭煜;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 化学机械抛光垫，其具有抛光面、与此对面的非抛光面以及规定这些面的侧面，其中所述的抛光面有(i)与从抛光面的中心部分行往周边部分的一条假想直线交叉的多个第1沟槽构成的第1沟槽组，此多个第1沟槽彼此互相不交叉，或从抛光面的中心部分行往周边部分螺旋线逐渐扩大的1个第1螺旋状沟槽任意一种，和(ii)由多个沿从抛光面的中心部分行往周边部分的方向延伸且与上述第1沟槽组的第1沟槽或第1螺旋状沟槽任一者交叉的第2沟槽所构成的第2沟槽组，此多个第2沟槽彼此互相不交叉。此化学机械抛光垫充分抑制了被抛光面上划痕的产生，且抛光速度优异，因此利于在化学机械抛光方法中使用。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光垫，其特征在于，有抛光面、与抛光面对向的非抛光面和规定这些面的侧面，该抛光面上有至少2个各自由多个沟槽构成的沟槽组，且上述2个沟槽组由以下构成：(i)与从抛光面的中心部分行往周边部分的1个假想直线交叉的多个第1沟槽构成的第1沟槽组，此多个第1沟槽彼此互相不交叉，和(ii)由多条沿从抛光面的中心部分行往周边部分的方向延伸且与上述第1沟槽组的第1沟槽交叉的第2沟槽所构成的第2沟槽组，此多个第2沟槽彼此互相不交叉。
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