[发明专利]抗蚀材料以及图案形成方法无效
| 申请号： | 200510073036.3 | 申请日： | 2005-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN1702552A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | 岸村真治;远藤政孝;屉子胜;上田充;饭森弘和;福原敏明 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 徐雁漪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种包含基础聚合物的抗蚀材料，其中基础聚合物中含有的化合物包含由以化学式1的通式所表示的第一单元和以化学式2的通式所表示的第二单元共同形成的共聚物，其中R1、R2、R3、R7、R8和R9相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4是碳原子数为0～20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5和R6相同或者不同，为氢原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基。 | ||
| 搜索关键词： | 材料 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包含基础聚合物的抗蚀材料，其中基础聚合物含有的化合物包含由以下化学式1的通式所表示的第一单元和以下化学式2的通式所表示的第二单元形成的共聚物，化学式1：![]()
化学式2：![]()
其中R1、R2、R3、R7、R8和R9相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4是碳原子数为0～20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5和R6相同或者不同，为氢原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基。
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