[发明专利]用于补偿介质上的缺陷的设备、介质和方法有效

专利信息
申请号: 200510072681.3 申请日: 2005-05-16
公开(公告)号: CN1713293A 公开(公告)日: 2005-12-28
发明(设计)人: 金旼奭;安龙津;姜景弼 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11B20/18 分类号: G11B20/18;G11B7/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 邸万奎;黄小临
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种用于根据缺陷是位于光学记录介质中的已记录区域内还是位于未记录区域内的辨别来补偿缺陷的设备、介质和方法。一种用于补偿缺陷的方法至少包括以下操作:参考所装载盘的预定信息区域来确定盘状态;当确定了盘上存储有数据时,参考具有记录信息的预定区域来确定关于已记录和未记录区域的位置信息,并且存储该位置信息;当在记录和再现数据的同时检测到缺陷时,参考位置信息而识别检测到缺陷的位置,并且确定已记录或未记录区域中的哪一个对应于检测到缺陷的位置,并且执行适于对应区域的用于补偿缺陷的预定方法。
搜索关键词: 用于 补偿 介质 缺陷 设备 方法
【主权项】:
1.一种用于补偿介质中的缺陷的方法,包括:通过参考介质的预定信息区域来确定介质记录状态;基于介质包括记录数据的确定结果,通过参考介质的预定区域来确定介质的已记录和未记录区域的位置信息,并且存储该位置信息;当在向/从识别的位置记录和/或再现数据的同时检测到缺陷时,通过参考所存储的位置信息而识别检测到缺陷的介质位置,并且根据所参考的所存储位置信息,确定所识别的位置是位于已记录区域内还是位于未记录区域内;以及根据所识别的区域是已记录的还是未记录的确定结果,执行对应的用于补偿缺陷的预定方法。
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