[发明专利]使用电子附着从衬底除去物质的方法无效

专利信息
申请号: 200510071791.8 申请日: 2005-04-29
公开(公告)号: CN1770390A 公开(公告)日: 2006-05-10
发明(设计)人: 董忠;齐宾 申请(专利权)人: 气体产品与化学公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;C23C16/56;C23C16/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 范赤;赵苏林
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 这里公开了一种从衬底的至少一部分除去物质的方法,该衬底为例如反应室或半导体材料。在一个方面,提供一种方法,包括:提供具有表面涂覆以物质的反应室;提供接近反应室的第一和第二电极,其中第一和第二电极位于目标区域内;向目标区域中传送包括反应性气体的气体混合物;向第一和/或第二电极提供能量以在目标区域内产生电子,其中至少一部分电子附着于至少一部分反应性气体上,从而形成带负电荷的清洗气体;用带负电荷的清洗气体与物质接触,带负电荷的清洗气体与物质反应,并形成挥发性产物;以及从反应室除去该挥发性产物。
搜索关键词: 使用 电子 附着 衬底 除去 物质 方法
【主权项】:
1.一种从反应室除去物质的方法,该方法包括:提供表面的至少一部分涂覆有物质的反应室;提供在反应室中或接近反应室的第一和第二电极,其中第一和第二电极位于目标区域内;将包括反应性气体的气体混合物传送到目标区域中,其中反应性气体具有大于0的电子亲和力;向第一或第二电极的至少一个提供能量以在目标区域中产生电子,其中至少一部分的电子附着到至少一部分的反应性气体上,从而形成带负电荷的清洗气体;用带负电荷的清洗气体接触该物质,其中带负电荷的清洗气体与该物质反应并形成至少一种挥发性产物;和从反应室中除去该至少一种挥发性产物。
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