[发明专利]光刻设备和设备制造方法有效
| 申请号： | 200510071694.9 | 申请日： | 2005-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN1677246A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | G·W·范德菲茨;C·－Q·桂;J·C·G·霍伊纳格斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备和方法，其中使用构图系统来给投射光束在其横截面的图案。通过投射系统把所述光束从照明系统引导在衬底支架上支持的衬底表面的目标部分上。所述目标部分具有相对于所述衬底板的预先确定的空间特征，其适于在所述衬底表面上的所需要曝光的图案。测量所述衬底的温度，并且计算所述衬底对所测量温度的尺寸响应。调整所述目标部分相对于所述衬底板的空间特征以便补偿所计算的尺寸响应。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：照明系统，用于提供辐射的投射光束；构图系统，用于给出在其横截面具有图案的投射光束；衬底支架，用于支持衬底；投射系统，用于把构图光束投射到所述衬底表面的目标部分，所述目标部分相对于所述衬底支架具有预先确定的空间特征，所述空间特征适于在所述衬底支架上预先确定的位置中支持的所述衬底表面上所需要曝光的图案；温度测量系统，用于测量所述衬底的温度；计算系统，用于计算所述衬底对所测量温度的尺寸响应；和调整系统，用于相对于所述衬底支架调整所述目标部分的空间特征以便补偿所计算的尺寸响应。
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