[发明专利]用于测定金属熔体或熔渣中的氧活性的测量装置无效

专利信息
申请号: 200510071424.8 申请日: 2005-05-08
公开(公告)号: CN1693888A 公开(公告)日: 2005-11-09
发明(设计)人: D·哈贝茨 申请(专利权)人: 贺利氏耐特电子国际股份公司
主分类号: G01N27/406 分类号: G01N27/406;G01N27/28
代理公司: 上海隆天新高专利商标代理有限公司 代理人: 楼仙英
地址: 比利时*** 国省代码: 比利时;BE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种用于通过测量头来测定金属熔体或熔渣中的氧活性的测量装置,该测量头设于输送管一端并且其上设有电化学测量单元。所述电化学测量单元具有固体电解质管,其一端封闭并在该封闭端含有标准物和电极,电极从所述固体电解质管的另一端伸出。所述固体电解质管在其外表面上具有由硅酸锆和氟化物的混合物制成的涂层。所述测量头也可以具有热电元件,并且根据氧活性测定结果,所述装置可以被用于测定熔化物中的硅和/或碳含量。
搜索关键词: 用于 测定 金属 中的 活性 测量 装置
【主权项】:
1.用于测定金属熔体或熔渣中的氧活性的测量装置,具有一测量头,所述的测量头设置于输送管的一端上并且其上设有电化学测量单元,其中,所述电化学测量单元具有一固体电解质管,所述固体电解质管一端封闭并在该封闭端含有标准物和电极,其中,电极从固体电解质管的另一端伸出,其特征在于:固体电解质管(5)在其外表面上具有由硅酸锆和氟化物的混合物制成的涂层(13)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贺利氏耐特电子国际股份公司,未经贺利氏耐特电子国际股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510071424.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top