[发明专利]平版印刷版原版有效
| 申请号： | 200510070973.3 | 申请日： | 2001-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN1680874A | 公开（公告）日： | 2005-10-12 |
| 发明（设计）人： | 堀田久 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 曹洪进 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用红外线激光曝光可书写的，可记录高感度图像，能获得没有污染的高质量画面印刷物的热型平版印刷版原版，特征是在粗面化的铝基体上形成具有规定密度和/或空隙率的阳极氧化皮膜，在这样的支撑体上设置利用红外线激光曝光可书写的记录层。 | ||
| 搜索关键词： | 平版印刷 原版 | ||
【主权项】：
1、一种平版印刷版原版，其特征在于：粗面化铝基体上形成阳极氧化皮膜的支撑体上，设置利用红外线激光曝光可书写的记录层，满足下述条件：下述式定义的空隙率为20-70％，上述阳极氧化皮膜露出表面的微孔直径在15nm以下，而且，显像处理后非图像部分的接触角在20度以下，空隙率(％)＝[1-(氧化皮膜密度/3.98)]×100其中氧化皮膜密度(g/cm3)＝单位面积的氧化皮膜重量/氧化皮膜膜厚。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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