[发明专利]在热敏正性石印印板材料上精确曝光小网点的方法

摘要

公开了借助于石印印板材料精确再现包含微网点的优质半色调图像的方法，所述石印印板材料包含需要湿法处理的热敏正性涂层。这种微网点具有≤25微米的网点尺寸，并且可以通过随机屏蔽或者通过调幅屏蔽以不低于150lpi的网目线数来获得。已经认识到，“物理的正确曝光能量密度”(物理的REED)处于CP到1.5*CP范围内，其中物理的REED被定义为这样的能量密度，在这样的能量密度下，由对应于图像数据中的50％半色调的微网点占据的印板上的物理区域与50％目标值一致；并且其中CP是印板的清除点，其被定义为在处理之后使涂层的95％溶解所需要的最低能量密度。因此，微网点的精确再现可以通过用能量密度在CP到1.5*CP范围中的光来曝光所述材料来实现。由此避免了由于曝光过度而导致的微网点损失。

主权项

1.一种用于制造石印印板的方法，其包括以下步骤-提供热敏正性石印印板前体，其包括基材和在其上的涂层；-借助于红外线在印板前体上曝光半色调图像，其包括具有25微米或以下尺寸的微网点；和-在显影剂中处理印板前体，由此从基材上除去涂层的非图像区域；其特征在于，红外线具有从CP到1.5*CP的能量密度，其中CP是清除点，其被定义为在处理步骤之后，在完全曝光区域中涂层的光密度等于0.05*Du所需要的最低能量密度，其中Du是在未曝光的状态中涂层的光密度。