[发明专利]用于形成特定图形的衬底及其制造方法无效
| 申请号： | 200510067606.8 | 申请日： | 1999-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN1697598A | 公开（公告）日： | 2005-11-16 |
| 发明（设计）人： | 神户贞男;关俊一;福岛均;木口浩史 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/18 | 分类号： | H05K3/18;H05K1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邰红;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种衬底，用以形成附着规定的流体并进行了图形化的膜。尤其是这种衬底，为了形成膜，备有按特定形状进行了图形化的图形形成区域(10)。然后，该图形形成区域(10)的构成是在对流体没有亲合性的非亲合性区域(111)之间根据一定规则配置对流体具有亲合性区域(110)。流体不会过分扩展或分离，在必要的区域上可形成附着均匀的均衡薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 特定 图形 衬底 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种衬底制造方法，该方法是制造用于形成附着一定的流体，并形成图形化的薄膜的衬底的制造方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：在对流体显示亲合性的基台上涂敷石蜡，形成石蜡层的步骤和；向所述亲合性区域提供能量，除去所述石蜡层，以便在形成所述图形化膜的图形形成区域内，根据一定规则使对于所述流体具有亲合性的亲合性区域配置在对于该流体不具有亲合性的非亲合性区域之间的步骤。
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