[发明专利]制造缺陷分析系统及其检测方法无效

专利信息
申请号: 200510065082.9 申请日: 2005-04-06
公开(公告)号: CN1844943A 公开(公告)日: 2006-10-11
发明(设计)人: 李元强 申请(专利权)人: 华硕电脑股份有限公司
主分类号: G01R31/00 分类号: G01R31/00;G01R31/28;H01L21/66
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 任永武
地址: 台湾省台北市*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种具侦测功能的制造缺陷分析系统(Manufacture Defect Analyzer,MDA)及其检测方法。具侦测功能的制造缺显分析系统用以检测一待测电路板,待测电路板包括一插槽,插槽具有一上盖。制造缺陷分析系统包括一平台、一侦测装置以及一分析装置。平台用以承载待测电路板。侦测装置对应于插槽而设置于平台上,并用以侦测上盖是否开启,若上盖开启则输出一开启信号。分析装置接收开启信号后,与插槽电性连接,以检测插槽有无制造缺陷。
搜索关键词: 制造 缺陷 分析 系统 及其 检测 方法
【主权项】:
1.一制造缺陷分析系统,用以检测一待测电路板,该待测电路板包括一插槽,该插槽具有一上盖,该制造缺陷分析系统包括:一平台,用以承载该待测电路板;一侦测装置,用以侦测该上盖是否被开启至一待测位置,若是则输出一开启信号;以及一分析装置;其中,当该分析装置接收该开启信号后,则该分析装置被驱动以与该插槽电性连接,以检测该插槽有无制造缺陷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华硕电脑股份有限公司,未经华硕电脑股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510065082.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top