[发明专利]镍粉的制造方法、镍粉的制造装置及镍粉制造用坩埚无效
申请号: | 200510064385.9 | 申请日: | 2005-04-15 |
公开(公告)号: | CN1683101A | 公开(公告)日: | 2005-10-19 |
发明(设计)人: | 小田和彦;丸野哲司;田中公二;三浦秀一;高桥诚;三浦和也 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
主分类号: | B22F9/12 | 分类号: | B22F9/12;B01J12/02 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳;邸万杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种由等离子体使放入坩埚内的镍原料熔融并蒸发从而制取镍粉时、能够防止电子器件特性劣化的镍粉的制造方法和制造装置。在设置于等离子体反应炉(1)内的坩埚(2)中使镍熔融并蒸发、冷却后在粒子收集装置(12)中得到镍粉。坩埚(2)的表面层之中的至少与镍接触的部分或整体用包覆层覆盖。在包覆层中,使用电极中采用镍粉的电子器件所使用的成分构成的物质或以该成分为主要成分的物质。另外,利用电极中采用镍粉的电子器件所使用的成分构成的物质或以该成分为主要成分的物质制造坩埚整体。反应炉(1)的内壁或整体也使用上述物质。 | ||
搜索关键词: | 制造 方法 装置 坩埚 | ||
【主权项】:
1.一种镍粉的制造方法,在设置于等离子体反应炉内的坩埚内,使镍熔融并蒸发,制得镍粉,其特征在于:使用下述这样的坩埚,即,利用由电极中采用镍粉的电子器件所使用的成分构成的物质或以该成分为主要成分的物质,覆盖所述坩埚的表面层之中的至少与镍接触的部分。
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