[发明专利]兼备强度和导电性的铜合金及其制造方法有效
| 申请号: | 200510062492.8 | 申请日: | 2005-03-29 |
| 公开(公告)号: | CN1676642A | 公开(公告)日: | 2005-10-05 |
| 发明(设计)人: | 村松尚国;铃木健;木村久道 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社;井上明久 |
| 主分类号: | C22C9/00 | 分类号: | C22C9/00;C22F1/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 郭煜;庞立志 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 在由Cu-Zr二元系或Cu-Zr-B三元系组成的单纯合金组成中,与强度和导电性的组合有关的性能指数M为M>400,能够根据电子部件的用途在宽的范围选择。本发明的铜合金,原子%组成用组成式:Cu100-(a+b)ZraBb (式中,0.05≤a≤8.0、0≤b≤4.0、a+b≤8.0)表示,呈现这样的2相组织:由Cu母相、和Cu母相与Cu-Zr间或Cu-Zr-B间的任意一方或两方的化合物的共晶相相互成为层状的组织构成,相邻的Cu母相晶粒彼此断续地接触。 | ||
| 搜索关键词: | 兼备 强度 导电性 铜合金 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种兼备强度和导电性的铜合金,其特征在于,原子%组成用组成式:Cu100-(a+b)ZraBb表示,式中,0.05≤a≤8.0、0≤b≤4.0、a+b≤8.0,呈现这样的2相组织:由Cu母相和Cu母相与Cu-Zr间或Cu-Zr-B间的任一方或两方的化合物的共晶相相互成为层状的组织构成,相邻的Cu母相晶粒彼此断续地接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本碍子株式会社;井上明久,未经日本碍子株式会社;井上明久许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510062492.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:关于锁相环路的改进
- 下一篇:半导体器件及该半导体器件的制造方法





