[发明专利]3,6－二氯吡啶甲酸的电解合成方法及设备有效
| 申请号： | 200510062042.9 | 申请日： | 2005-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN1807691A | 公开（公告）日： | 2006-07-26 |
| 发明（设计）人： | 马淳安 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | C25B3/04 | 分类号： | C25B3/04;C07D213/79 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 | 代理人： | 黄美娟;袁木棋 |
| 地址： | 310014浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种电解效率高的3，6－二氯吡啶甲酸的电解合成方法及设备。所述的电解合成方法包括：以3，4，5，6－四氯吡啶甲酸为主要电解原料，电解液置于电解槽中电解，反应结束后中和、冷却结晶、过滤、干燥即得3，6－二氯吡啶甲酸，其中通过稳压稳流可控硅周期换向电源自动对电解槽的阴极进行粗糙化处理。所述的电解合成设备包括电源、配料槽、电解槽，所述的电源为稳压稳流可控硅周期换向电源，所述电源连接电流换向器，电流换向器设有程序控制单元；电源的正极连接电解槽阳极，电源的负极连接电解槽阴极。所述的电解合成设备，解决了目前3，6－D电解合成过程中的诸多缺陷，具有较大的实用价值和社会经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 吡啶甲酸 电解 合成 方法 设备 | ||
【主权项】：
1、一种3，6-二氯吡啶甲酸的电解合成方法，包括：以3，4，5，6-四氯吡啶甲酸为主要电解原料，电解液置于电解槽中电解，反应结束后中和、冷却结晶、过滤、干燥即得3，6-二氯吡啶甲酸，其特征在于：通过稳压稳流可控硅周期换向电源自动对电解槽的阴极进行粗糙化处理，所述的粗糙化处理周期为1～10小时，粗糙化时间为2～40分钟，粗糙化电流密度为200～2000A/m2。
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