[发明专利]石英/AZ光胶紫外光光刻掩模的制备方法无效
| 申请号： | 200510060784.8 | 申请日： | 2005-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN1740908A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | 孔泳;陈恒武 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08;G03F7/00;G03F7/16;G03F7/26;G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州中成专利事务所有限公司 | 代理人： | 盛辉地 |
| 地址： | 310027*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种石英/AZ光胶紫外光光刻掩模的制备方法，其特征是：使用的光刻掩模材料是AZ光胶和石英基片。使用标准光刻技术，将预先设计好的图形从菲林片上转移到涂覆有AZ光胶的石英基片上，通过显影除去经过曝光的AZ光胶，经洗静，烘干后，即可制得载有设计图形的石英/AZ光胶紫外光光刻掩模。该紫外光光刻掩模可用于以200－360nm的紫外光作为光源来实现图形的精确转移。本发明具有工艺简单，成本低，制备周期短的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 石英 az 紫外光 光刻 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种石英/AZ光胶紫外光光刻掩模的制备方法，其步骤是：(1)用画图软件设计图案，再用激光照排机将设计好的图案转移到菲林片上；(2)将用作基片的石英依次用丙酮，乙醇超声清洗，在140-160℃下烘20-30分钟；(3)将经过清洗，烘干的石英基片置于台式匀胶机的转盘上，将AZ正性光胶均匀地甩到石英基片上；(4)将甩好光胶的石英基片至于烘箱中前烘处理；(5)以载有图案的菲林片作为掩模，将前烘过的石英/AZ光胶基片置于光刻机下曝光；(6)将经过曝光的石英/AZ光胶基片浸入显影液中显影；(7)从显影液中取出石英/AZ光胶基片，用蒸馏水洗静后，放入烘箱后烘处理，降温后取出。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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