[发明专利]在基板上制备纳米点阵列的方法及其装置无效
| 申请号： | 200510060297.1 | 申请日： | 2005-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN1730381A | 公开（公告）日： | 2006-02-08 |
| 发明（设计）人： | 翁文剑;罗鸣;韩高荣;杜丕一;程逵;沈鸽;赵高凌;张溪文;徐刚;汪建勋 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 韩介梅 |
| 地址： | 310027浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了在基板上制备纳米点阵列的方法及其装置，其制备包括：配置最终形成纳米点材料的前驱体分散系；将具有点阵排列的多孔模板与恒温基板固定于精密位移装置的上下对应位置；利用压力泵加压使前驱体分散系通过多孔模板并与基板接触，在基板上形成与模板孔相对应的纳米液滴，蒸发溶剂，在基板上形成固化的前驱体球；将具有前驱体球的基板进行个热处理，得到纳米点阵列。该方法通过调节模板与基板间的间距，施加压力的大小，模板孔洞的尺寸和分布，前驱体分散系的浓度和基板的选择，可以控制阵列中纳米点的尺寸、密度及成分掺杂等。所得纳米点阵列可望在高密度存储器领域、高分辨率传感器领域、催化领域、光子晶体领域获得广泛地应用。 | ||
| 搜索关键词： | 基板上 制备 纳米 阵列 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.在基板上制备纳米点阵列的方法，其步骤如下：1)配置最终形成纳米点材料的前驱体分散系；2)将具有点阵排列的多孔模板与恒温基板固定于精密位移装置的上下对应位置；3)利用压力泵加压使前驱体分散系通过多孔模板并与恒温基板接触，在恒温基板上形成与模板孔相对应的纳米液滴，蒸发溶剂，在恒温基板上形成固化的前驱体球；4)将具有前驱体球的基板进行热处理，得到纳米点阵列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学，未经浙江大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510060297.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：半导体装置及其制造方法
- 下一篇：网络计算机专用协同浏览器及其实现方法
