[发明专利]真空装置、其颗粒监控方法、程序以及颗粒监控用窗口部件

摘要

提供一种可切实地监控包含易剥离的沉积物的颗粒，正确地评价真空装置的清洁度的真空装置及其颗粒监控方法、程序和颗粒监控用窗口部件。半导体制造装置(1000)具备用于对晶片实施制品化处理的处理室(100)。处理室(100)上部连接有设置了阀门(120)、用于导入清洗气体的吸气管线，在下部连接有设置了阀门a的预抽管线(200)。预抽管线(200)上设置有：排出处理室(100)内的气体的干式泵(220)、在阀门a和干式泵(220)之间监控颗粒的颗粒监控装置(210)。半导体制造装置(1000)通过打开阀门(120)，供给清洗气体，将冲击波所产生的物理性振动赋予处理室(100)内，使沉积物剥离，监控颗粒。

主权项

1.一种真空装置，具备：形成预定空间的容器；通过预定排气管排出所述容器内气体的排气机构；至少一个设置在所述排气管上，限制所述被排出的气体流量的排气限制机构；在所述至少一个排气限制机构和所述排气机构之间，设置在所述排气管上，监控所述排气管内的颗粒的颗粒监控机构，其特征在于：具有通过预定供给管向所述容器内供给清洗气体的清洗机构；在所述清洗机构和所述容器之间，设置在所述供给管上，限制所述被供给的清洗气体流量的供给限制机构；所述供给限制机构在所述至少一个排气限制机构允许排出所述气体时，开始供给所述清洗气体；所述被监控的颗粒含有通过所述清洗气体的供给而在所述容器内游离的颗粒。