[发明专利]用于磁记录介质的衬底及其制造方法无效
| 申请号： | 200510051808.3 | 申请日： | 2005-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN1664933A | 公开（公告）日： | 2005-09-07 |
| 发明（设计）人： | 新谷尚史;山形则男 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/84 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 钟强;樊卫民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供的是表面经过处理的衬底，其中，衬底的表面的粗糙度可以被控制。这种表面经过处理的衬底能够形成磁记录介质，其中，记录头浮动稳定性得到了保证，而且其具有能够实现高记录密度的磁膜。还提供了一种粗化衬底的表面的方法。更具体的说，提供了用于磁记录介质的表面磁膜处理的衬底，其中，用来形成记录层的表面每μm2含有40到1000个凸起，最大高度是10nm或是更小和平均粗糙度是0.3到2.0nm，而且在表面上没有任何缺陷或斑点。此外，还提供了制造用于磁记录介质的表面经过处理的硅衬底的方法，包括蚀刻硅衬底的表面的步骤，其中超声波被施加于硅衬底的表面而且衬底被摇动或旋转。还提供了包括一种所述硅衬底的磁记录介质。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 记录 介质 衬底 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于磁记录介质的表面经过处理的硅衬底，衬底的表面每μm2具有40到1000个凸起，最大高度是10nm或更少和平均粗糙度是0.3到2.0nm，其中整个表面没有缺陷或斑点。
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