[发明专利]有序纳米孔氧化铝模板光学常数的测试方法无效
| 申请号： | 200510027581.9 | 申请日： | 2005-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN1715871A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 沈文忠;徐维丽;丁古巧;陈红;郑茂俊 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25;G01N21/31;G06F19/00 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 王锡麟;王桂忠 |
| 地址： | 200240*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种有序纳米孔氧化铝模板光学常数的测试方法，利用二次电化学方法腐蚀高纯铝片生成的各种厚度和纳米孔径的有序纳米孔氧化铝模板，测量有序纳米孔氧化铝模板的透射光谱，通过修正过的四层介质模型拟合透射光谱中的干涉条纹，得出氧化铝模板的纳米孔深、阻碍层厚度以及随波长变化的折射率，利用吸收系数公式拟合透射光谱中接近带隙的吸收边，得出有序纳米孔氧化铝模板的能带的带隙和带尾。本发明有效地利用简单的光学方法，准确获取这些常数数值。 | ||
| 搜索关键词： | 有序 纳米 氧化铝 模板 光学 常数 测试 方法 | ||
【主权项】：
1.一种有序纳米孔氧化铝模板光学常数的测试方法，其特征在于，利用二次电化学方法腐蚀高纯铝片生成的各种厚度和纳米孔径的有序纳米孔氧化铝模板，测量有序纳米孔氧化铝模板的透射光谱，通过修正过的四层介质模型拟合透射光谱中的干涉条纹，得出氧化铝模板的纳米孔深、阻碍层厚度以及随波长变化的折射率，利用吸收系数公式拟合透射光谱中接近带隙的吸收边，得出有序纳米孔氧化铝模板的能带的带隙和带尾。
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