[发明专利]一种硅片表面颗粒定点清除系统及方法无效
| 申请号： | 200510027550.3 | 申请日： | 2005-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN1891359A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 伍强;方精川 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;B08B11/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片表面颗粒定点清除系统，包括扫描物镜、高度和方位角调节装置、水平清洁气流输出装置、和定向能装置，所述定向能装置安装在高度调节装置上，并可相对扫描物镜做上下平动和绕扫描物镜做水平转动，定向能装置沿近水平方向对准硅片表面。本发明还包括一种利用该系统实现硅片表面颗粒定点清除的方法，采用扫描物镜确定颗粒位置，然后定向能装置发射辐射波将颗粒与硅片分离。本发明免除了传统方法在清洗后重复扫描以确认清洗效果的操作，节省了机器时间，缩短了硅片生产周期，并且还可以避免传统大面积清洗对硅片的损伤，大大提高了硅片清洗的工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 表面 颗粒 定点 清除 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种硅片表面颗粒定点清除系统，其特征在于，包括扫描物镜、高度和方位角调节装置、水平清洁气流输出装置、和定向能装置，所述定向能装置安装在高度调节装置上，并可相对扫描物镜做上下平动和绕扫描物镜做水平转动，扫描物镜的镜头对准将要进行颗粒清除的硅片，定向能装置沿近水平方向对准硅片表面，扫描物镜与定向能装置通过数据线及相关电路相连接，水平清洁气流输出装置的气流输出端朝向硅片，吹出的气流紧贴硅片表面并与之平行。
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