[发明专利]超薄层基质无土栽培方法无效
申请号: | 200510027341.9 | 申请日: | 2005-06-30 |
公开(公告)号: | CN1709038A | 公开(公告)日: | 2005-12-21 |
发明(设计)人: | 牛庆良;黄丹枫 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | A01G31/00 | 分类号: | A01G31/00 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 | 代理人: | 王锡麟;王桂忠 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种农业种植技术领域的超薄层基质无土栽培方法,采用无土栽培中固、液、气三相合理分配和调节技术,在栽培槽底部开设营养液导流和根系引导槽,在聚苯塑料和基质贴合处之间形成一液、气两相丰富的薄层,引导作物根系紧密贴合此处生长并向上部基质中伸展,降低基质厚度,在栽培槽底部保留一层营养液,除供应作物根系所需以外,通过上渗湿润上层基质,创造适宜根系生长环境,营养液层的保留也可减少栽培中每日的滴灌次数,从而降低肥水管理难度。本发明所用设施设备简单,价格低,可单个使用,或根据温室面积和结构多个组合使用,适宜于所有适合无土栽培种植的蔬菜和花卉作物,易于实现大规模商业化应用。 | ||
搜索关键词: | 薄层 基质 无土栽培 方法 | ||
【主权项】:
1.一种超薄层基质无土栽培方法,其特征在于,采用无土栽培中固、液、气三相合理分配和调节技术,在栽培槽底部开设营养液导流和根系引导槽,在聚苯塑料和基质贴合处之间形成一液、气两相丰富的薄层,引导作物根系紧密贴合此处生长并向上部基质中伸展,降低基质厚度,在栽培槽底部保留一层营养液,除供应作物根系所需以外,通过上渗湿润上层基质,创造适宜根系生长环境,营养液层的保留也可减少栽培中每日的滴灌次数,从而降低肥水管理难度。
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