[发明专利]含非苯芳基双螺环材料及其合成方法和应用有效

专利信息
申请号: 200510026224.0 申请日: 2005-05-26
公开(公告)号: CN1706839A 公开(公告)日: 2005-12-14
发明(设计)人: 黄维;解令海 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: C07D333/18 分类号: C07D333/18;C07D519/00;C07D495/14;C07D333/50;C07D409/14;C07F7/08;C09K11/06;H05B33/14;H01L31/04
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属有机光电信息材料技术领域,具体为一类具有高稳定性双螺环有机电子材料与制备方法。该类化合物材料含有双螺环结构模块I,其该结构模块I含有增加溶解度、阻隔发色团聚集或增加稳定性的结构链;含有不共轭、半共轭或全共轭的具有4化学键的核结构;螺中心的元素包括C、Si或Ge元素。其优点:(1)合成路线灵活;(2)取代基有效地调制材料的光电性质,如氟和二硫砜取代基;(3)高形态稳定性和环境稳定性,如受阻胺结构。该类材料在有机平板显示、光伏电池、场效应管、激光和非线性光学等领域有广泛应用。
搜索关键词: 含非苯芳基双螺环 材料 及其 合成 方法 应用
【主权项】:
1.一种含双螺环结构模块I的化合物材料II,其特征在于具有如下结构:式中的符号和标号具有下述含义:R1~R4、R5~R8、R9~R12、R13~R16分别表示R1、R2、R3、R4;R5、R6、R7、R8;R9、R10、R11、R12;R13、R14、R15、R16分别表示R1~R4、R5~R8、R9~R12、R13~R16在各自环的任意元素可能位置作为取代基;表示模块I与取代基O1、O2、P1、P2、T1、T2、R1、R2、S1、S2结构单元之间连接在各自环的任意位置区域,并且模块与取代基连接个数在0,1,2,3,4之间;R1~R16出现时相同或者不同,并为不表达、氢或具有1至22个碳原子的直链、支链或者环状烷基链或者具有受阻胺结构链,其中一个或者多个不相邻的碳原子可被N-R19、O、S、-CO-O-、-O-CO-O-、-CO-NR19-、-NR19-CO-NR19-、-O-CO-S-、-NR19-CO-O-、-CS-O-、-CS-NR19-、-O-CS-O-、-NR19-CS-NR20-、-O-CS-S-、-NR19-CS-O-、-CS-S-、-SiR19R20-置换,或者其中一个或者多个氢原子被氟或氰基取代;或具有2至40个碳原子的烯基、炔基、芳基,其中一个或多个碳原子可以被杂原子Si、Se、O、S、N、S(O)2所取代,一个或多个碳原子上的氢可被氟或氰基取代;R19、R20出现时相同或者不同,并为不表达、氢或具有1至22个碳原子的直链、支链或者环状烷基链或者具有受阻胺结构链;A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9、A10、A11、A12出现时相同或者不同,并为不表达、或GeR19R20、CR19R20、NR19、-O-、-S-、-Se-、-S(O)2-、-SiR19R20;M1、M2出现时相同或者不同,并为C、Si、Ge、B;d出现时相同或者不同,为独立为1、2、3、4、5、6、7、8、9、或10;所谓“不表达”表示不出现;Core表示可形成四个化学键的,并且四个中有两对相邻的基团结构单元;Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7表示可形成两个化学键的,并且相邻的基团结构单元,每次出现时相同或者不同,并为如下结构中的一种:式中的符号和标号具有下述含义:-*为结构单元之间连接的位置区域;D1、D2、D3出现时相同或者不同,并为CR19R20、NR19、-O-、-S-、-Se-、-S(O)2-、或-SiR19R20-;E1、E2、E3、E4、E5、E6出现时相同或者不同,并为CR19、N、SiR19;Core、Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7出现时相同或者不同,其中至少为一个非苯基或异环芳基结构;Ar1表示可形成双化学键的共轭或半共轭结构单体重复单元,其结构如下中的一种:其中,式中的符号和标号具有下述含义:-*为结构单元之间Ar1与模块I连接的位置区域;大于两个的-*代表可以任意选择其中的两个-*作为其之间的连接;D1、D2、D3出现时相同或者不同,并为CR19R20、NR19、-O-、-S-、-Se-、-S(O)2-、或-SiR19R20-;E1、E2、E3、E4出现时相同或者不同,并为CR19、N、或SiR19;AC1、AC2、AC3、AC4出现时相同或者不同,并为苯基、茚基、萘基、薁基、芴基、菲基、蒽基、芘基、萘嵌苯基、噻吩基、吡咯基、呋喃基、咪唑基、噻唑、吡啶基、吡嗪基、吲哚基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、苯并咪唑基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、咔唑基、邻二氮杂菲基;或为其结构的烷基、氟取代、或氧化衍生物。O1、O2、P1、P2、T1、T2、R1、R2、S1、S2出现时相同或者不同,表示可形成单化学键的芳基结构单元,其结构包括氢、不表达或如下中的一种:其中,式中的符号和标号具有下述含义:-*为结构单元之间O1、O2、P1、P2、T1、T2、R1、R2、S1、S2与模块I连接的位置区域;大于一个的-*代表可以任意选择其中的一个-*作为其之间的连接;D1、D2、D3出现时相同或者不同,并为CR19R20、NR19、-O-、-S-、-Se-、-S(O)2-、或-SiR19R20-;E1、E2、E3、E4、E5、E6出现时相同或者不同,并为CR19、N、SiR19;e、f、g出现时相同或者不同,并独立为0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、或10;AC1、AC2、AC3、AC4出现时相同或者不同,并为苯基、茚基、萘基、薁基、芴基、菲基、蒽基、芘基、萘嵌苯基、噻吩基、吡咯基、呋喃基、咪唑基、噻唑、吡啶基、吡嗪基、吲哚基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、苯并咪唑基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、咔唑基、邻二氮杂菲基;或为其结构的烷基、氟取代、氧化衍生物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510026224.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top