[发明专利]一种旋转磁场平面靶磁控溅射装置无效
| 申请号： | 200510021648.8 | 申请日： | 2005-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN1743498A | 公开（公告）日： | 2006-03-08 |
| 发明（设计）人： | 杨传仁;唐章东 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610054四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种旋转磁场平面靶磁控溅射装置，属于电子机械技术领域，特别涉及磁控溅射镀膜装置。主要包括基片托盘1、靶座2、靶材3和真空腔体8，基片托盘1、靶座2和靶材3位于真空腔体8内，基片托盘1位于靶座2和靶材3的上方，靶材3安装于靶座2上；其特征在于，它还包括磁钢组29和一个旋转电机12，磁钢组29由磁钢底板27和磁钢28组成，磁钢底板27上偏心地安置至少一个以上的磁钢28，整个磁钢组29置于靠近靶座2的下方；旋转电机12通过传动轴11与磁钢底板27的中心相连，以带动整个磁钢组29转动。本发明其实质在于采用旋转磁钢组所产生的旋转磁场改善溅射靶材的磁控区域，从而提高靶材的利用率、提高溅射速度并可以实现大面积均匀镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋转 磁场 平面 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
1、一种旋转磁场平面靶磁控溅射装置，主要包括基片托盘(1)、靶座(2)、靶材(3)和真空腔体(8)，基片托盘(1)、靶座(2)和靶材(3)位于真空腔体(8)内，基片托盘(1)位于靶座(2)和靶材(3)的上方，靶材(3)安装于靶座(2)上；其特征在于，它还包括磁钢组(29)和一个旋转电机(12)，所述磁钢组(29)由磁钢底板(27)和磁钢(28)组成，磁钢底板(27)上偏心地安置至少一个以上的磁钢(28)，整个磁钢组(29)置于靠近靶座(2)的下方；所述旋转电机(12)通过传动轴(11)与磁钢底板(27)的中心相连，以带动整个磁钢组(29)转动。
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