[发明专利]用氟硅酸锌制备折射率可变的过渡层无效
| 申请号： | 200510020599.6 | 申请日： | 2005-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN1686889A | 公开（公告）日： | 2005-10-26 |
| 发明（设计）人： | 雷智;张静全;冯良桓 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C03C17/22 | 分类号： | C03C17/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610041四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 用氟硅酸锌制备折射率可变的过渡层，本项发明所属域为新型光电子材料。为了解决SnO2：F沉积薄膜的衍射光斑，需要在玻璃与SnO2：F层之间加入一层透明过渡层薄膜。本发明主要是采用氟硅酸锌，用热喷涂的方法，在加热的玻璃表面，沉积出SiO2膜和SiO2与其他金属氧化物构成的多组分薄膜。通过改变添加金属盐在反应前驱液中所占百分比，可以方便的调整沉积薄膜的折射率。本发明沉积的可变折射率过渡层可以消除SnO2：F薄膜的衍射光斑。 | ||
| 搜索关键词： | 硅酸 制备 折射率 可变 过渡 | ||
【主权项】：
1用氟硅酸锌(ZnSiF6.H2O)作为制备SiO2的主要反应前驱液配料，通过热喷涂方式，在加热玻璃表面制备出折射率可变的过渡层。
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