[发明专利]钙钛矿类氧化物薄膜复合器件无效
申请号: | 200510011815.0 | 申请日: | 2005-05-27 |
公开(公告)号: | CN1870174A | 公开(公告)日: | 2006-11-29 |
发明(设计)人: | 丰家峰;赵昆;赵见高;吕惠宾;韩秀峰;詹文山 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | G11C11/14 | 分类号: | G11C11/14;H01L27/22;H01L43/08;G11B5/31 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高存秀 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一系列钙钛矿类氧化物薄膜复合器件,是在任意一种现有的衬底上,利用常规的薄膜制备方法和相应的微加工工艺制备而成。其核心结构均包括:一钙钛矿类氧化物层,所述的钙钛矿类氧化物为RE1-xTMxMnO3型氧化物,其中,RE为La或/和Pr、Nd、或Y;TM为Sr或Ca;0<x<1.0。这些复合器件充分利用了钙钛矿类氧化物材料特有的电流/电压诱导的电阻效应,使得本发明提供的钙钛矿类氧化物薄膜复合器件的性能优良,在室温和一定的外加电流或电压作用下,可以呈现出很大的电阻相对变化量。完全符合室温下各种传感器、自旋阀开关、随机存取存储器存储单元和其它自旋电子学器件应用的需要,在实际中有广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 钙钛矿类 氧化物 薄膜 复合 器件 | ||
【主权项】:
1、一种钙钛矿类氧化物薄膜复合器件,其核心结构包括一衬底,及其上沉积的厚为0.5~2000nm的钙钛矿类氧化物层,钙钛矿类氧化物层的中间部分作为柱状结区,两端作为底电极;所述的钙钛矿类氧化物为RE1-xTMxMnO3型氧化物,其中,RE包括:La或/和Pr、Nd、或Y;TM为Sr或Ca;0<x<1.0。
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