[发明专利]喷嘴清洗装置及基板处理装置有效
| 申请号： | 200510009408.6 | 申请日： | 2005-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN1669680A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | 高木善则;川口靖弘 | 申请（专利权）人： | 大日本网目版制造株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B05B15/02;B05C5/00;B05C15/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;王玉双 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种喷嘴清洗装置及基板处理装置，能够提高喷出喷嘴的清洗处理的清洗效果。在清洗细缝喷嘴(41)的清洗部(74)上，设置接近细缝喷嘴(41)的喷出口(41a)的下方的导向块(743)。此外，在设置喷出氮气的气体喷嘴(710)和喷出漂洗液(LQ)的清洗喷嘴(750)的同时，利用吸引装置吸引细缝喷嘴(41)的喷出口(41a)的下方。通过设定导向块(743)的X轴方向的厚度为喷出口(41a)的X轴方向的宽度或其以上的厚度，从而进行调整，使得吸引装置的吸引力不直接作用到喷出口(41a)上。由此，可以使吸引装置的吸引力上升，提高清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 清洗 装置 处理 | ||
【主权项】：
1、一种喷嘴清洗装置，对从设于前端部的喷出口喷出规定的处理液的喷出喷嘴进行清洗，其特征在于，包括：清洗液供应装置，其从喷出口向前述喷出喷嘴的前端部附近供应规定的清洗液；吸引装置，其通过吸引口吸引由前述清洗液供应装置供应的前述规定的清洗液，调整前述吸引装置的吸引力，使得前述喷出口附近成为前述规定的处理液的大致停留点。
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