[发明专利]隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法和液晶显示元件有效

专利信息
申请号: 200510008541.X 申请日: 2005-02-18
公开(公告)号: CN1821877A 公开(公告)日: 2006-08-23
发明(设计)人: 一户大吾;岩渊智子;西尾寿浩;梶田彻 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G03F7/038 分类号: G03F7/038;G02B5/20;G02F1/13;G03F7/20
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物,该组合物能够抑制由于放射线敏感性聚合引发剂成分的升华所引起的光掩模等的污染,不会产生液中异物,而且可以形成一种具有高的灵敏度和图像分辨率,同时在断面形状、抗压强度、耐摩擦性、与透明基板的粘附性等均优良的隔片。该隔片形成用放射线敏感性树脂组合物含有:[A]不饱和羧酸(酸酐)、含有环氧基的不饱和化合物与其他不饱和化合物的共聚物;[B]聚合性不饱和化合物;以及[C]以由式(1)表示的化合物作为必要成分的放射线敏感性聚合引发剂,式中,R1表示烷基;R2和R3表示氢原子、烷基或苄基;R4、R5、R7和R8表示氢原子、卤素原子、烷基或者烷氧基;R6表示卤素原子、烷基、烷氧基等。
搜索关键词: 形成 放射线 敏感性 树脂 组合 及其 方法 液晶显示 元件
【主权项】:
1.一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,该组合物含有:[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)含有环氧基的不饱和化合物与(a3)其它不饱和化合物的共聚物;[B]聚合性不饱和化合物;以及[C]以由下列化学式(1)表示的化合物作为必要成分的放射线敏感性聚合引发剂;在(1)式中,R1表示碳原子数1-12的直链、支链或环状的烷基;R2和R3彼此独立地表示氢原子,碳原子数1-12的直链、支链或环状的烷基或苄基;R4、R5、R7和R8彼此独立地表示氢原子,卤素原子,碳原子数1-12的直链、支链或环状的烷基或者碳原子数1-4的直链或支链状的烷氧基;R6表示卤素原子,碳原子数1-12的直链、支链或环状的烷基,被选自羟基和碳原子数1-4的直链或支链状的烷氧基中的取代基所取代的碳原子数1-12的直链、支链或环状的烷基,碳原子数1-4的直链或支链状的烷氧基,或者被选自羟基和碳原子数1-4的直链或支链状的烷氧基中的取代基所取代的碳原子数2-4的直链或支链状的烷氧基。
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