[发明专利]光学元件的制造方法无效
| 申请号： | 200510006816.6 | 申请日： | 2001-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN1641447A | 公开（公告）日： | 2005-07-20 |
| 发明（设计）人： | 冈田健;高野胜彦;坂本淳一;芝昭二;岩田研逸;谷内洋;西田武人;冈田良克 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/20;B41J2/01 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光学元件包括至少多个形成在基底上的象素，和分别设在相邻象素之间的分隔壁，该光学元件是通过包含以下步骤的方法制造的：在基底上形成树脂混合物的分隔壁；用包含有至少从氧、氩和氦选出的气体的气氛中的等离子体对带有分隔壁的基底执行辐射干蚀刻；用包含有至少氟原子的气氛中的等离子体对受到所述干蚀刻处理的基底执行辐射等离子体处理；用喷墨系统的方法将墨施加到由分隔壁包围的区域来形成象素。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造光学元件的方法，该光学元件至少包括形成在基底上的多个象素，和分别设在相邻象素之间的分隔壁，所述方法包括步骤：在基底上形成树脂混合物的分隔壁；在至少包含有从氧、氩和氦选出的气体的气氛中，用等离子体辐射其上形成有所述分隔壁的基底而执行干蚀刻处理工艺；在至少包含有氟原子的气氛中，用等离子体辐射对受到所述干蚀刻处理的基底执行等离子体处理工艺；用水接触受到所述等离子体处理工艺的基底的表面执行水处理工艺；和借助喷墨系统将墨施加到由分隔壁包围的区域来形成象素。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510006816.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
