[发明专利]散射测量方法、散射校正方法、和X射线CT设备无效
| 申请号： | 200510003623.5 | 申请日： | 2005-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN1636516A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 贯井正健 | 申请（专利权）人： | GE医疗系统环球技术有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;张志醒 |
| 地址： | 美国威*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 为了校正多片层成像中的散射，将投影p与散射校正因子R(d，do)彼此相关联地存储，从使用检测器厚度为do的检测器通过使用具有射束厚度为d的X射线射束对对象进行成像收集的数据D0确定投影p，确定与该投影p相关联的散射校正因子R(d，do)，并且将数据D0乘以散射校正因子R(d，do)，得到散射校正数据D1。 | ||
| 搜索关键词： | 散射 测量方法 校正 方法 射线 ct 设备 | ||
【主权项】：
1.一种散射测量方法，包括步骤：通过使用等于检测器厚度do的射束厚度对所要成像的对象进行成像测量数据I(do，do)；通过使用大于检测器厚度do的射束厚度d对所要成像的对象进行成像测量数据I(d，do)；并且根据所述数据I(do，do)与所述数据I(d，do)之间的差确定散射量S(d，do)。
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