[发明专利]静态随机存取存储器单元及制造方法有效

专利信息
申请号: 200510002847.4 申请日: 2005-01-25
公开(公告)号: CN1652337A 公开(公告)日: 2005-08-10
发明(设计)人: P·T·源;R·C·翁 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11;H01L21/8244
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 于静;杨晓光
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种具有P阱和N阱接触并且优选地具有接地的P+扩散的低成本SRAM(静态随机存取存储器)单元。该SRAM单元在M2金属层实现并且其单元通闸泄漏、功能和制造成品率得到改善。该SRAM单元包括交叉连接的pnp上拉装置P1、P2和npn下拉装置N1、N2,其中该P1、P2装置与电源VDD相连接,该N1、N2装置通过P+扩散区接地。第一通闸连接在第一位线和该装置P1和N1的接合点之间,并且其栅极连接到一字线上,第二通闸连接在第二位线和该装置P2和N2的接合点之间,并且其栅极连接到该字线上。
搜索关键词: 静态 随机存取存储器 单元 制造 方法
【主权项】:
1.一种SRAM单元,其包括:交叉连接的pnp上拉装置P1、P2和npn下拉装置N1、N2,该P1、P2装置与电源VDD相连接;第一通闸,其连接在第一位线和装置P1和N1的接合点之间,其栅极与字线相连接;第二通闸,其连接在第二位线和装置P2、N2的接合点之间,其栅极与该字线相连接;并且其中该N1、N2装置通过P+扩散区域接地。
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