[发明专利]离子束监测装置无效
| 申请号： | 200510000186.1 | 申请日： | 2005-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN1638014A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | A·J·默雷尔;B·哈理森;P·爱德华兹;P·坎德斯利;R·米切尔;T·H·斯米克;G·莱丁;M·法利;T·伊藤忠 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J27/00;H01L21/265;H01L21/425;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于离子注入机的一种离子束监测装置，在所述离子注入机中，希望可以监测用于注入的离子束的通量和/或横截面图。通常希望的是，测量离子注入机内离子束的通量和/或横截面图，以提高对半导体晶片或者类似材料的离子注入的控制。本发明描述了改进晶片支座以获得这样的离子束断面图。衬底支座可用于逐渐堵截离子束使其不能进入下游通量监测器，或者可以将通量检测器安装到晶片支座上，该通量监测器具有窄入口孔。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束 监测 装置 | ||
【主权项】：
1.一种测量离子注入机内的离子束通量断面图的方法，所述离子注入机可用于产生沿着离子束轨迹的离子束，所述离子束用于注入被衬底支架固定在靶位置的衬底内，所述离子注入机包括位于所述靶位置下游的离子束通量检测器和由所述衬底支架提供的防护罩，当所述防护罩沿着离子束轨迹被放置时，所述防护罩将所述检测器从所述离子束中屏蔽出来，所述方法包括以下步骤：(a)使所述衬底支架与所述离子束之间产生第一相对运动，以便所述防护罩以逐渐变化的数量来堵截所述离子束；(b)在所述第一相对运动期间，用所述检测器测量离子束通量；和(c)通过利用所测量的离子束通量的变化来确定在第一方向上的所述离子束通量断面图。
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