[发明专利]记录层保护涂布剂及涂布了该涂布剂的记录介质有效
| 申请号： | 200480043152.4 | 申请日： | 2004-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1956851A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | 那须健司 | 申请（专利权）人： | 星光PMC株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/28 | 分类号： | B41M5/28;B41M5/30;C09D129/14;C09D171/03;C09D177/06;C09D123/02;C09D5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种记录层保护涂布剂，其特征在于，其中含有羧基改性聚乙烯基醇(A)、聚酰胺多胺表卤醇(B)及聚亚乙基亚胺(C)，优选提供一种记录层保护涂布剂，其特征是，羧基改性聚乙烯基醇(A)的皂化度为90～99.5摩尔％，优选其特征是赋予记录介质优良耐水性，提供一种具有高耐水性的记录介质，其特征是把该记录层保护涂布剂在记录层上涂布而形成。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 保护 涂布剂 介质 | ||
【主权项】：
1.一种记录层保护涂布剂，其特征在于，含有羧基改性聚乙烯基醇(A)、聚酰胺多胺表卤醇(B)及聚亚乙基亚胺(C)。
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