[发明专利]确定投影系统中微镜的偏转无效
| 申请号： | 200480042675.7 | 申请日： | 2004-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN101023387A | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | G·博克;G·施雷普菲尔;M·维尔纳 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | G02B26/12 | 分类号： | G02B26/12;G02B7/182 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘春元;魏军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有光源(2)、尤其是具有激光光源的投影系统，其中从所述光源(2)出发通过偏摆镜(1)产生投影光束(6)。根据本发明，设置至少一个被布置于所述投影光束(6)的边缘区中的光探测器(3)来用于检测所述偏摆镜(1)的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 投影 系统 中微镜 偏转 | ||
【主权项】：
1、具有光源(2)、尤其是具有激光光源的投影系统，其中从所述光源(2)出发通过偏摆镜(1)产生投影光束(6)，其特征在于：至少一个被布置于所述投影光束(6)的边缘区中的光探测器(3)，用于检测所述偏摆镜(1)的位置。
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